[发明专利]潜伏性催化剂及其用途有效

专利信息
申请号: 98122751.1 申请日: 1998-12-03
公开(公告)号: CN1153806C 公开(公告)日: 2004-06-16
发明(设计)人: 三宅澄也;大久保明子;本田博美;乡义幸;永田宽;小林稔 申请(专利权)人: 住友电木株式会社
主分类号: C08K5/55 分类号: C08K5/55;C08L63/00;H01L23/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种具有由磷原子上键合4个特定基团的1价阳离子部分与硼原子上键合4个特定基团的1价阴离子部分构成的硼酸鏻结构的潜伏性催化剂,以及提供一种具有将该硼酸鏻作为重复单元,通过硼原子上键合的4个特定基团中的至少1个,将2个以上该重复单元连接起来的结构的潜伏性催化剂。本发明还提供一种含有这种潜伏性催化剂的热固性树脂组合物和环氧树脂成型材料,进一步提供一种用该环氧树脂成型材料进行封装的半导体装置。
搜索关键词: 潜伏性 催化剂 及其 用途
【主权项】:
1.一种由通式(2)所示的硼酸鏻构成的潜伏性催化剂通式(2)中,R5、R6、R7和R8为具有芳香环或杂环的1价有机基团或1价脂肪族基团,且磷原子与R5~R8中的每1个皆形成P-C键,它们可以相互相同或不同;式中Z1为与取代基Y1和Y2键合的有机基团;式中Z4为与取代基Y3和Y4键合的有机基团;Y1和Y2为由1价质子给予性取代基释放出质子而形成的基团,同一分子内的取代基Y1和Y2与硼原子键合形成螯合结构;Y3和Y4为由1价质子给予性取代基释放出质子而形成的基团,同一分子内的取代基Y3和Y4与硼原子键合形成螯合结构;Z1和Z2可以相互相同或不同,Y1、Y2、Y3和Y4可以相互相同或不同;再有,对于硼的配位基Y1Z1Y2和Y3Z2Y4在释放质子之前的质子给体HY1Z1Y2H和HY3Z2Y4H而言,将这些各质子给体1g与纯水50g混合,在加压蒸煮器中,在125℃下,对其加压蒸煮处理20小时,获得的抽样水的导电率数值在100μS/cm以下。
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