[发明专利]均匀平面光波导的制造方法无效
| 申请号： | 98103201.X | 申请日： | 1998-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN1105927C | 公开（公告）日： | 2003-04-16 |
| 发明（设计）人： | 郑善太 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种均匀平面光波导的制造方法，该方法包括如下步骤(a)在一基片上沉积下包层，并抛光该沉积表面；(b)在步骤(a)所得结构上沉积芯层并抛光该沉积表面；(c)对在步骤(b)中其表面被抛光的芯层进行构图，以制得光波导；以及(d)在经过步骤(c)构图形成的光波导上沉积包层。因为进一步包括了表面抛光步骤，所以提高了光波导厚度的均匀性。其结果是，光波导内的有效折射率变得均匀，并能制造出更精确的光学器件。各信道的相位差与期望值匹配，从而降低了串音。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 平面 波导 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造均匀平面光波导的方法，其特征是包括如下步骤：(a)在一基片上沉积下包层，并抛光该沉积的下包层表面；(b)在步骤(a)所得结构上沉积芯层，并抛光该沉积的芯层表面；(c)对步骤(b)中其表面被抛光的芯层进行构图，以制得光波导；以及(d)在经过步骤(c)构图形成的光波导上沉积上包层。
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