[发明专利]瓦斯填充方法无效
| 申请号： | 98103077.7 | 申请日： | 1998-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1069959C | 公开（公告）日： | 2001-08-22 |
| 发明（设计）人： | 黄堂庆云;黄堂泰昌 | 申请（专利权）人： | 巧星股份有限公司 |
| 主分类号： | F17C1/00 | 分类号： | F17C1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 郑霞 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种瓦斯填充方法，并不需要从外部注入加压瓦斯，而是在密闭的弹性体室内部产生瓦斯，而可轻易形成被加压的密闭弹性体室，压力的设定也容易，加之可同时填充瓦斯于独立的多个密闭弹性体室内部，至于其在密闭部室内产生瓦斯的方法，则是以高频电磁加热配置于密闭弹性体室内的发热材，使其发热，利用该热分解瓦斯产生剂以产生瓦斯而充满于密闭弹性体室的内部。 | ||
| 搜索关键词： | 瓦斯 填充 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在密闭弹性室内填充瓦斯的方法，其特征在于：其中所包括的步骤为：(A)安置瓦斯产生组成物，其中含有(1)瓦斯产生物质(剂)，(2)发热物质，其能以磁场涡流与磁滞损失而产生热能，及(3)粘合剂，共同封入于密闭弹性体室内；(B)曝露该组成物于一高频振荡器所形成的磁场内，以令该发热物质产生热能；然后(C)分解该瓦斯产生剂，以在该密闭室内产生瓦斯；(D)结果：密闭室内充满瓦斯。
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