[发明专利]将半导体衬底对准底座台的方法及实施该方法的装置

摘要

用底座台对准半导体衬底的方法,包括步骤扫描形成于所说半导体衬底上的对准标记,以及确定所说对准标记的位置,其特征在于用电子束以一定的扫描角(θ),对准标记进行扫描;对每个扫描角(θ)计算所说对准标记沿扫描方向的宽度(W);从在步骤(b)计算出的宽度(W)中确定最小宽度。并定义与最小宽度有关的扫描角(θ)为所说半导体衬底与所说底座台之间的角间距(θ’)。

主权项

1.一种将半导体衬底(20)与底座台(15)对准的方法，其中底座台上放置所说半导体衬底(20)，在用电子束(10)于所说半导体衬底(20)上直接形成电路图形的工艺中，所说方法包括以下步骤：扫描形成于所说半导体衬底(20)上的对准标记(41，44，45)，以及确定所说对准标记(41，44，45)的位置，其特征在于：(a)用电子束(10)以一定的扫描角(θ)横扫过对准标记(41，44，45)进行扫描，扫描角(θ)定义为所说的电子束(10)的方向和参考方向间的角度，该角为变化的；(b)对每个扫描角(θ)计算所说对准标记(41，44，45)沿扫描方向的宽度(W)；以及(c)从在步骤(b)计算出的宽度(W)中确定最小宽度，并定义与最小宽度有关的扫描角(θ)为所说半导体衬底(20)与所说底座台(15)之间的角间距(θ’)。