[发明专利]含大量绝缘栅场效应晶体管的高集成电路半导体器件无效

专利信息
申请号: 98100947.6 申请日: 1998-03-23
公开(公告)号: CN1130772C 公开(公告)日: 2003-12-10
发明(设计)人: 笠井直记 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/78;H01L27/108
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明的目的是提供一种包括高密度集成电路的半导体器件,其中具有大量尺寸小且提高了性能的绝缘栅场效应晶体管。通过使绝缘栅场效应晶体管的源接触直径大于漏接触直径,将源接触电阻设定在小于漏接触电阻的值,从而提高了晶体管的电流驱动能力,减小了驱动能力的偏差。
搜索关键词: 大量 绝缘 场效应 晶体管 集成电路 半导体器件
【主权项】:
1.一种包括具有大量绝缘栅场效应晶体管的高密度集成电路的半导体器件,其特征在于,每个所述绝缘栅场效应晶体管的源接触电阻小于每个所述绝缘栅场效应晶体管的漏接触电阻,每个所述绝缘栅场效应晶体管的源接触塞由钨层构成,而漏接触塞由多晶硅层构成。
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