[发明专利]硅单晶的制造方法有效

专利信息
申请号: 98100136.X 申请日: 1998-01-16
公开(公告)号: CN1149306C 公开(公告)日: 2004-05-12
发明(设计)人: 阿部孝夫;木村雅规 申请(专利权)人: 信越半导体株式会社
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 甘玲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在一种利用柴克劳斯基法制造硅单晶的方法中,使用一种具有尖点形状或是尖点截头之尖端的晶种。晶种尖端缓慢与硅熔体接触,并且以缓慢的速度降低晶种的高度,以便熔融晶种尖端部直到该尖端部的面积增加到预定值。接着慢慢将晶种向上提拉,以便生长出具有预定直径的硅单晶晶锭而不进行缩颈操作。此方法可以轻易地提拉出重的硅单晶,而不进行缩颈操作,同时不需要使用例如晶体固定机构等的复杂装置。
搜索关键词: 硅单晶 制造 方法
【主权项】:
1、一种利用柴克劳斯基法制造硅单晶的方法,其中,晶种与硅熔体接触,然后在旋转的同时缓慢地提拉,以便在晶种之下生长硅单晶晶锭,该方法包含下列步骤:提供具有要与硅熔体接触的尖端的晶种,所述的尖端具有尖点形状或是它的截头;缓慢将晶种尖端与硅熔体接触,然后以缓慢的速度降低晶种的高度,以便熔融晶种尖端部直到该尖端部的尺寸增加到预定值;以及接着慢慢将晶种向上提拉,以便生长出具有预定直径的硅单晶晶锭而不进执行缩颈操作。
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