[实用新型]等离子氧除臭杀菌按摩脚盆无效

专利信息
申请号: 97240517.8 申请日: 1997-08-14
公开(公告)号: CN2304391Y 公开(公告)日: 1999-01-20
发明(设计)人: 袁建;程隽 申请(专利权)人: 深圳市精锐实业有限公司;深圳市平方电子有限公司
主分类号: A61H33/00 分类号: A61H33/00;A61H9/00;A61L2/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518067 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种等离子氧除臭杀菌按摩脚盆,将等离子氧发生器100所产生的等离子氧气体经高于按摩脚盆最高水位处输送到盆底出气口200产生的气泡实现按摩及进行除臭杀菌,该等离子氧发生器100包括装有等离子体陶瓷片的气室105、产生高频高压的电路单元103以及不断对气室105产生压力气体的气泵单元104。这种等离子氧除臭杀菌按摩脚盆,由于结构上采用更加紧凑的一体化设计,使气泵鼓气、气室内产生等离子氧及相关电路有效衔接在一起,从而实现以较简单的结构、较低的造价提供具有按摩和除臭杀菌多重功能的按摩脚盆。
搜索关键词: 等离子 除臭 杀菌 按摩 脚盆
【主权项】:
1.一种等离子氧除臭杀菌按摩脚盆,其特征在于包括脚盆、等离子氧发生器100、以及将等离子氧发生器100所产生的等离子氧气体经高于按摩脚盆最高水位处输送到盆底出气口200的输气管300,所述等离子氧发生器100包括装有等离子氧发生元件的气室105、产生可以驱动等离子氧发生元件的电路单元103以及不断对气室105产生压力气体的气泵单元104。
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