[发明专利]在移动基材上沉积富碳涂层的方法和装置有效
| 申请号： | 97199346.7 | 申请日： | 1997-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN1109130C | 公开（公告）日： | 2003-05-21 |
| 发明（设计）人： | 莫西斯·M·戴维德;唐讷德·J·麦克拉瑞;斯蒂芬·P·马其 | 申请（专利权）人： | 明尼苏达矿业和制造公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在移动的基材上沉积富碳涂层的方法和装置。这种方法和装置涉及在含碳的气体环境中围绕着旋转电极建立电场。这将导致富碳的等离子体形成，其中电极(84)相对等离子体加负偏压，从而导致离子从等离子体向电极加速。在与电极(84)接触的基材上连续发生离子轰击，从而在基材长度上产生连续的富碳涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 移动 基材 沉积 涂层 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在移动基材上沉积富碳薄膜的方法，该方法包括下述步骤：在促进富碳薄膜沉积的环境中，所述环境包括与所述移动基材接触的电极，该电极具有导电区和不导电区，为所述电极提供功率以便由所述环境形成包括离子的等离子体，从而使所述电极相对所述等离子体成负偏压，借此使所述离子朝所述电极加速，所述离子轰击与所述电极接触的移动基材，导致所述的富碳薄膜在所述基材上沉积。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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