[发明专利]分子膜的制备方法和制备装置有效
| 申请号： | 97126413.9 | 申请日： | 1997-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1104475C | 公开（公告）日： | 2003-04-02 |
| 发明（设计）人： | 大竹忠;美浓规央;中川彻;曾我真守;小川一文;野村幸生;武部安男 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C09D4/00 | 分类号： | C09D4/00;B05D1/28;C03C17/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 采用由至少一种硅烷系化合物和溶剂构成的溶液与基材通过硅烷系化合物形成硅氧烷键在基材上形成膜厚度为0.1纳米-1微米的分子膜。在表面上有活性氢的基材(2)的表面上涂覆含有例如氯硅烷系化合物的涂覆溶液，在基材表面的活性氢和上述硅烷系化合物的氯之间发生脱除氯化氢的反应，在基材表面上制备共价键硅烷系化合物的分子膜的方法，在保持低水蒸气浓度的气氛状态下的展开槽(11)内，送入上述基材，使用转印装置(6，7)，在上述基材表面上涂覆含有硅烷系化合物和溶剂的涂覆溶液，在上述基材表面的活性氢和上述硅烷系化合物的氯之间进行脱除氯化氢的反应，之后在展开槽内或在外除去上述涂覆之后未反应的涂覆溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 分子 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种分子膜的制备方法，它是在表面上有活性氢的基材表面上涂覆含有至少一种选自氯基、烷氧基和异氰酸基的反应基团的硅烷系化合物的涂覆溶液，使基材表面的活性氢与上述硅烷系化合物的反应基团之间发生脱除反应，在基材表面使硅烷系化合物形成共价键来制备分子膜的方法，其特征在于，在保持低水蒸气浓度的气氛状态下的展开槽内，送入上述基材，使用转印装置，在上述基材表面上涂覆含有硅烷系化合物和溶剂的涂覆溶液，使上述基材表面的活性氢与硅烷系化合物的反应基团之间进行脱除反应，之后在容器内或容器外将涂覆之后未反应的涂覆溶液除去。
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