[发明专利]可防止浪费蒸发材料的离子镀膜装置无效
| 申请号： | 97121761.0 | 申请日： | 1997-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1151313C | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 酒见俊之;田中胜 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张祥龄;刘文意 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 当在基片上形成薄膜期间，等离子束是指向坩埚，等离子束的电流流经坩埚的。而当在基片上完全形成薄膜之后，到在后续的基片上开始形成薄膜之前的一段时期内，使等离子束指向辅助阳极，以使等离子束电流通过辅助阳极而流动。 | ||
| 搜索关键词： | 可防止 浪费 蒸发 材料 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
1.一种离子镀膜装置，包括一个具有等离子束发生器的真空室，一个放在所述真空室中用作阳极的坩埚，和一个放在所述坩埚周围的辅助阳极，由所述等离子束的发生器产生的一等离子束作用在所述坩埚中的蒸发材料上使之蒸发并电离，离子化后的蒸发质点沉积在置于所述坩埚对面的基片表面，以在基片上形成一薄层蒸发材料，该离子镀膜系统的特征在于，其中还包括：导电状态控制元件，该导电状态控制元件用于：当基片上正在形成薄膜的这段时间内，使等离子束指向所述的坩埚，使等离子束的电流通过坩埚的流动；而当基片上完全形成薄膜之后到在后续的基片上开始形成薄膜之前的这一段时间内，使等离子束指向所述的辅助阳极，使等离子束的电流通过辅助阳极而流动。
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