[发明专利]辐射设备中调节辐射的系统和方法无效
| 申请号： | 97115527.5 | 申请日： | 1997-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1161168C | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 拉蒙·A·C·西奥奇;弗朗西斯科·M·赫南德兹－格拉 | 申请（专利权）人： | 西门子医疗系统公司 |
| 主分类号： | A61N5/00 | 分类号： | A61N5/00;G21K5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨梧 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在一种辐射发送设备中，特别是在一种辐射治疗设备(2)中，经由辐射束(1)投射于目的物(13)的实际辐射量予以调节以匹配目的物上的辐照域(13)。颚板(250、252、254、256)设置在辐射源与目的物之间以形成开口(110)。照域分割成几部分，并对每一部分计算楔修正值和/或单值函数。楔修正值和/或单调函数用以把辐射投向照域中的每一部分。颚板(250、252、254、256)和辐射剂量在治疗每一部分期间予以控制。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 设备 调节 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于调节从辐射源投向目的物的辐射输出的方法，包括以下步骤：在目的物上限定辐照域；产生辐射束，具有可变的辐射输出和从辐射源到目的物的基本上无能量损失的辐射束路径；其特征在于，将辐照域分成多个部分，每个部分具有确定的参数；对多个部分的每个部分计算楔形修正值；限定辐射源与目的物之间的开口，该开口安置在所述部分中的一个部分的上方，该开口能够把辐射束限定于该一部分所确定的各个参数；以及使用楔修正值对每一部分作辐射治疗。
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