[发明专利]感光材料处理装置无效
申请号: | 97101821.9 | 申请日: | 1997-01-30 |
公开(公告)号: | CN1144095C | 公开(公告)日: | 2004-03-31 |
发明(设计)人: | 津村和典 | 申请(专利权)人: | 诺日士钢机株式会社 |
主分类号: | G03D3/02 | 分类号: | G03D3/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 方晓虹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种感光材料处理装置,具备处理液槽和位于该处理液槽内的导架,其特征在于,导架包括导架板、下部回转导座和下部回转盖,下部回转导座与下部回转盖相互配合而形成空间,在下部回转导座上形成处理液喷出口,在下部回转盖上形成导入处理液的处理液开口,使从处理液槽底部喷出的处理液进入在下部回转盖与下部回转导座间形成的空间并通过设置在下部回转导座上的喷出口而向感光材料传送路径喷出。本发明能有效地搅拌处理液。 | ||
搜索关键词: | 感光材料 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种感光材料处理装置,具备处理液槽和位于该处理液槽内的导架,其特征在于,所述导架包括导架板(51、52)、下部回转导座(53)和下部回转盖(55),所述下部回转导座(53)与所述下部回转盖(55)相互配合而形成空间,在所述下部回转导座(53)上形成处理液喷出口(54),在所述下部回转盖(55)上形成导入处理液的处理液开口(56),使从处理液槽底部喷出的处理液进入在所述导架的所述下部回转盖(55)与下部回转导座(53)之间形成的空间并通过设置在所述下部回转导座(53)上的喷出口(54)而向所述感光材料传送路径喷出。
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