[发明专利]沉淀二氧化硅的新制备方法、新型含铝沉淀二氧化硅及其补强高弹体的用途无效
| 申请号: | 96190427.5 | 申请日: | 1996-03-28 |
| 公开(公告)号: | CN1053877C | 公开(公告)日: | 2000-06-28 |
| 发明(设计)人: | Y·保马尔;Y·彻瓦利尔;P·库彻特 | 申请(专利权)人: | 罗纳·布朗克化学公司 |
| 主分类号: | C01B33/193 | 分类号: | C01B33/193;C09C1/30;C08K3/36 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王杰 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 制备具有良好的分散性和非常令人满意的补强特性的沉淀二氧化硅的新方法。以粉末、实际上球形珠粒或颗粒形式存在的新型沉淀二氧化硅,其特征在于它具有一CTAB比表面,100~240m2/g,-DOP油保留量低于300ml/100g,一孔分布,由直径为175—275A的孔构成的孔体积占直径小于或等于400A的孔构成的孔体积的50%以下,一超声崩解后的平均直径小于5μm,一铝含量至少为0.35%(重),该二氧化硅作为高弹体补强填料的用途 | ||
| 搜索关键词: | 沉淀 二氧化硅 制备 方法 新型 及其 补强高 弹体 用途 | ||
【主权项】:
1.制备沉淀二氧化硅的方法,其特征在于包括使碱金属M硅酸盐与酸化剂反应从而得到沉淀二氧化硅的悬浮液,随后分离和干燥该悬浮液,其中沉淀过程以下列方式进行:(i)制成含有碱金属M硅酸盐的初始基本原料,硅酸盐在所述初始基本原料中的浓度以SiO2表示为不包括端值0与20在内的范围0~20g/l,(ii)将酸化剂加入所述基本原料中直至存在于基本原料中的至少5%M2O被中和为止,(iii)将酸化剂和碱金属M硅酸盐同时加入反应混合物中以便使被加入的以SiO2表示的硅酸盐量/初始基本原料中存在的以SiO2表示的硅酸盐数量这一比值为不包括端值4在内的范围4~100,其特征在于所述方法包括下列二种操作(a)或(b)之一:(a)于步骤(iii)之后将铝化合物A、随后一种碱性试剂加入反应混合物中,所述分离过程包括过滤和由该过滤产生的滤饼的崩解过程,所述崩解在铝化合物B存在下进行,(b)将硅酸盐与铝化合物A同时加入步骤(iii)之后产生的反应混合物中,当所述分离过程包括过滤和由此过滤形成的滤饼的崩解过程时,崩解在铝化合物B存在下进行。
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