[发明专利]制造逆磁电阻磁头的方法无效
| 申请号： | 96111017.1 | 申请日： | 1996-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN1146867C | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | A·E·舒尔茨;F·E·施泰堡;K·P·阿什;B·S·扎克 | 申请（专利权）人： | 西加特技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G11B5/39 | 分类号： | G11B5/39 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 吴蓉军 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 披露了一种制造逆磁电阻磁头的方法。该方法包括制造一个写部分，它包括位于有槽的基片(54)内的底极(56)。底极被填充铜线圈(64)和聚合物(58)。在聚合物部分上制造写间隙(64A)，极尖(72)以及顶极(67)。顶极的顶面被弄成平面，并在顶极上制造底屏蔽(74)，从而形成基本平滑的平面，在其上可以放置读部分。在写部分的顶上制造读部分，它包括第一读间隙(78)，磁阻元件(80)，第二读间隙(84)以及屏蔽(86)。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 磁电 磁头 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造逆磁电阻磁头的方法，该方法包括：在远离磁头的空气承载面(52)的基层(54)的凹部制造底极(56)；在底极的上方设置聚合物绝缘层(58)和导电线圈(64)；其特征在于包括：在底极(56)和极尖(72)之间并邻接聚合物绝缘层(58)的顶面(60)处制造写间隙；在接近空气承载面的写间隙中制造高磁矩材料的极尖(72)；在极尖和写间隙的顶上制造具有弄成平面的顶面的底屏蔽(74)；在底屏蔽的顶上制造第一读间隙(78)；在接近空气承载面的第一读间隙的部分的顶上形成磁电阻元件(80)；在第一读间隙部分的顶上制造电接触(82)，所述电接触连接磁电阻元件和逆磁电阻磁头的外部区域；在电接触和磁电阻元件的顶上制造第二个读间隙(84)；以及在第二读间隙的顶上制造顶屏蔽(86)。
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