[发明专利]在基片上扩散成像的方法和组合物无效
| 申请号： | 96110006.0 | 申请日： | 1996-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1137641A | 公开（公告）日： | 1996-12-11 |
| 发明（设计）人： | J·J·费尔滕 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03C8/02 | 分类号： | G03C8/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在有机聚合物层中形成图像的方法，它包括下列顺序步骤A.使用层压法把包含聚合物带的未成像第一层用到基片上；B.往未成像的第一层上，涂上含有由有机酸或碱及增塑剂组成的液态溶液的已成像第二层；C.将已成像第二层加热以影响有机酸或碱及增塑剂对第一层的下部区域的渗透，因此，第一层的下部区域中的聚合物膜因为有机酸或膜的反应而变为不溶；D.用水或水溶液洗涤这些层以便从第一层的已成像区域除去已溶的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 基片上 扩散 成像 方法 组合 | ||
【主权项】：
1.一种在有机聚合物层中制造图形的方法，它包括下述相继步骤：A.用层压法把包含聚合物带的未成像第一层用到基片上；B.把包含由有机酸或碱及增塑剂的已成像第二层涂到未成像第一层上；C.将已成像第二层加热，以影响有机酸或碱及增塑剂渗透入第一层的下方区域，由于与有机酸或碱的反应，第一层下方区域的聚合物膜因此变为不溶；以及D.用水或含水溶液洗涤此层，以便从第一层的已成像区域除去已溶的聚合物。
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