[发明专利]印制电路板的制造无效
申请号: | 95197602.8 | 申请日: | 1995-12-11 |
公开(公告)号: | CN1175285A | 公开(公告)日: | 1998-03-04 |
发明(设计)人: | A·M·苏塔;P·T·麦克格拉夫 | 申请(专利权)人: | 阿尔菲弗赖伊有限公司 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42;H05K3/24 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,谭明胜 |
地址: | 英国克*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在制造PCB时使用的一种方法,包括保护金属焊接点及/或通孔,以提供一个防止失泽而且可焊接的涂层在本方法中,优选用浸没法对焊接点及/或通孔进行光亮腐蚀、金属镀覆,并用防失泽剂处理。防失泽剂也可以加到浸镀液中。通常用银或铋进行金属镀覆,焊接点及/或通孔包括铜。 | ||
搜索关键词: | 印制 电路板 制造 | ||
【主权项】:
1.一种对包括一个绝缘层和一个带有已经加了防失泽剂涂层的金属焊接点及/或通孔的导电层的PCB进行电镀的方法,该方法包括在一个光亮腐蚀步骤中,把焊接点及/或通孔和一种光亮腐蚀组合物接触;随后在一个金属浸镀步骤中,通过和一种电镀组合物接触,在已腐蚀的焊接点及/或通孔上镀以金属,以形成可焊的电镀金属表面,电镀组合物包括一种其电正性高于形成焊接点及/或通孔的金属的电正性的金属离子,而且其中基本上没有所述离子的还原剂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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