[发明专利]直接沉积含金属的图案化膜的方法

摘要

公开了一种制作金属氧化物、金属或其他含金属的材料的布线图案膜的无光刻胶的方法。该法包括将金属络合物的无定形膜涂覆到一种基材上。该膜可用标准的工业技术，用旋转涂布法很容易涂覆。所用的金属络合物是光反应性的，在适合波长的光存在下，可进行低温化学反应。反应的最终产物取决于进行反应的气氛。在空气中可制得金属氧化物膜。通过仅将膜的选择的部分暴露到光中，可制得布线图案的膜。通过将膜的不同部分在不同气氛中暴露到光中的方法可由相同的膜得到两种或两种以上材料的布线图案。生成的布线图案的膜通常是平面的。通常不需要单独的平整步骤。

主权项

1.一种在基材上制作含金属的材料的图案的方法，所述的方法包括下述步骤：(a)将金属配合物的无定形膜沉积在基材表面上；(b)将所述的膜放在所选的气氛中；以及(c)将所述膜的所选的区域暴露到电磁辐射或电子束、离子束或原子束中，它们能使所述的金属络合物产生所需的激发状态，使所述的所选区域内的所述金属配合物进行光化学反应，所述的反应使所述的所选区域内的所述金属配合物转变成新的含金属的材料，粘附到所述的基材上，其中在暴露过程中，将所述基材的温度保持在低于所述金属络合物的分解温度。