[发明专利]显影与清洁同时进行的成像方法和成像装置无效
| 申请号： | 95118565.9 | 申请日： | 1995-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1092348C | 公开（公告）日： | 2002-10-09 |
| 发明（设计）人： | 吉田聪;浦和茂登男;会田修一;久木元力;杷野祥史;西尾由纪 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G13/08 | 分类号： | G03G13/08;G03G15/08;G03G21/00;G03G9/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 冯谱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种成像方法，它包括充电过程，让光敏元件充电；曝光过程，让充电的光敏元件曝光，从而形成静电潜影；显影过程，其中由调色剂承载元件所承载的调色剂与光敏元件表面进行接触，从而将静电潜影显影并在光敏元件上形成调色剂图像；转印过程，将光敏元件上的调色剂图像转印到转印物质上；和与显影同时进行的清洗过程，在该过程中，在转印过程后保留在光敏元件上的残余调色剂被回收到调色剂承载元件。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 清洁 同时 进行 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成像方法，它包括：充电过程，让光敏元件(100)充电；曝光过程，让充电的光敏元件(100)曝光，从而形成静电潜影；显影过程，其中由调色剂承载元件(102)所承载的调色剂与光敏元件(100)表面进行接触，从而将静电潜影显影并在光敏元件(100)上形成调色剂图像；转印过程，将光敏元件(100)上的调色剂图像转印到转印介质(127)上；和与显影同时进行的清洗过程，在该过程中，在转印过程后保留在光敏元件(100)上的残余调色剂被回收到调色剂承载元件(102)；其中，光敏元件(100)表面对于水的接触角是85度或更高；调色剂至少由一种包括粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒和一种无机细颗粒组成；以及，调色剂的按体积的平均粒径Dv(μm)在3μm≤Dv≤8μm范围内，按重量的平均粒径D4(μm)在3.5μm≤D4≤9μm范围内，在按数目的粒径分布中，粒径低于5μm的颗粒的百分率(Nr)是在17％(按数目)≤Nr≤90％(按数目)范围内。
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