[发明专利]用于材料表面改性的等离子体浸没离子注入装置

摘要

本发明提出一种用于材料表面改性的等离子体浸没离子注入装置，主要包括主真空室，高频等离子体源和金属蒸汽真空电弧及高频天线激励系统，本发明具有多种等离子体产生手段，它即可用于金属，陶瓷，玻璃，聚合物材料表面改性，也可用于半导体材料处理，可进一步提高材料表面改性的效果。

主权项

1．一种用于材料表面改性的等离子体浸没离子注入装置，该装置包括主真空室[18]，高频等离子体源[9、10、11]，金属蒸汽真空电弧等离子体源[13、15]，多灯丝电子枪[16]，径向和轴向探针组件[2、12]，高频天线激励系统，溅射电极[3]，高压脉冲电源系统[28、29]，真空抽气系统[20、21、23、24]，供气系统、油冷系统[27]，其中所述的：高频等离子体源[9、10、11]安装在真空室[18]的顶法兰上，真空室[18]为不锈钢圆筒，在其外壁铺有永久磁体[7]，在其顶部装有顶部磁补偿盒[34]和底部装有底部磁补偿盒[35]，在主真空室内壁，顶部、底部上铺有铝的真空室内衬[5]，主真空室主真空室顶法兰[36]和主真空室[18]用螺栓连接起来，主真空室底法兰[37]和主真空室[18]焊接在一起；金属蒸汽真空电弧等离子体源[13、15]，轴向对称均匀分布在真空室[18]四周；多灯丝电子枪[16]轴向对称均匀分布在真空室[18]周围；径向探针组件[2]从真空室[18]侧面的接口装入，轴向探针组件[12]从高频等离子体源真空室[9]的顶部接口装入；高频天线[1]沿真空室[18]内壁周围对称放置；溅射电极[3]从真空室[18]后面接口装入；高压脉冲电源系统[28、29]通过高压电缆与高压靶台[33]相接；真空抽气系统[20、21、23、24]安装在真空室[18]的下方；供气系统全部装在气柜内，气管通过电磁阀[25]分别和气体入口[10]和下部进气管相连；油冷系统[27]和高压靶台组件[26、32、33]相连。