[发明专利]兑卤法脱钠析钾制大晶体高纯氯化钾的方法无效

专利信息
申请号: 95111124.8 申请日: 1995-07-18
公开(公告)号: CN1048958C 公开(公告)日: 2000-02-02
发明(设计)人: 周金玉;宋以谦 申请(专利权)人: 周金玉;宋以谦
主分类号: C01D3/08 分类号: C01D3/08
代理公司: 连云港市专利事务所 代理人: 毕东峰
地址: 222023 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种新的兑卤析钾法,是根据常压下、20℃的K+、Na+、Mg++//Cl--H2O水盐体系相图的KCl结晶区的有关点计算值,确定各种参加反应的原料的应加入量,然后在结晶器中兑卤析钾,其特征在于向结晶器中相兑的是两种不同浓度KCl饱和卤水,或是加入光卤石点卤水和KCl不饱和液,光卤石,或是加入KCl饱和卤水和光卤石点卤水、光卤石,兑卤后一次制得的KCl纯度为97%与99.99%的结晶体;KCl的总收率为77—87%,结晶的宽度为0.45—1.0mm,长度可达5mm。
搜索关键词: 兑卤法脱钠析钾制大 晶体 高纯 氯化钾 方法
【主权项】:
1、兑卤法脱钠析钾制大晶体高纯氯化钾的方法,是根据常压下、-15°-+35℃的K+、Na+、Mg++‖Cl--H2O水盐体系相图的各结晶区间、结晶线段中的有关数据,计算各种参加反应的原料的应加入量,然后进行脱钠和析钾操作,其特征在于加工流程中采用的钾钠共饱卤水(WKN),其浓度为20°-31°Be′可与光卤石结晶阶段卤水(WGS),其浓度为33°-36.5°Be′,相互兑卤后,即流入沉降池中使钠盐沉于池底,其上层清液为光卤石点卤水(WG),可供兑卤析钾与再生光卤石(G-2)使用,而底层的钠盐可定期清除,此即是兑卤脱钠工艺;析钾的第一结晶器中加入已计量的20°-30.5°Be′KCl结晶阶段饱和卤水(WK-1)和加入30.5°-33.0°Be′的光卤石结晶阶段饱和卤水(WGS)兑卤析钾,在结晶器中经循环流动56小时后,即进行固液分离,所得母液为KCl结晶阶段卤水(WP),可返入自然蒸发结晶池中去自然蒸发再次析钾,所得的湿KCl经用20°Be′的KCl结晶阶段饱和卤水(WP)洗涤后干燥,即得97%的高纯大结晶KCl产品(Q2),其洗涤液可重返入流程中处理;从结晶器底部排出的料浆经分离、洗涤、干燥后,可制得KCl含量达99.99%的大晶体产品(Q1)。
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