[发明专利]用于光敏抗蚀剂层的显影剂

摘要

本发明涉及无金属离子的显影剂，该显影剂除含有至少一种标准的碱性化合物之外还含有某种阴离子表面活性剂和任选的非离子表面活性剂，本发明还涉及相应的浓缩物。

主权项

1.一种含(a)水和(b)至少一种水溶性有机碱性化合物的无金属离子的显影剂，该显影剂还含有c)至少一种下式的阴离子表面活性剂R1-〔O-CH2-CH2-〕z-O-CH2-COOH(I)或R1-〔O-CH2-CH2-〕z-O-CH2-SO3H(II)，式中R1是(C1-C20)烷基或任选用至多3个支链或直链烷基取代的(C6-C20)芳基和z是1-60的整数，并且还包括d)至少一种下式的非离子表面活性剂CmH2m+1-〔O-CH2-CH2-〕x〔O-CH(CH3)-CH2-〕yOH(III)或CmH2m+1-〔O-CH2-CH2-〕x〔O-CH(CH3)-CH2-〕yO-CRH2R+1(IV)，式中m是10-22的数，n是1-6的数，和x和y各自分别独立为3-30的数，和/或e)至少一种下式的表面活性剂HC≡C-CR2R3-〔O-CH2-CH2-〕rOH(V)或HO-〔CH2-CH2-O-〕r-CR4R5-C≡C-CR2R3-〔O-CH2-CH2-〕rOH(VI)，式中R2-R5各自分别独立为氢原子或(C1-C5)烷基和r是1-60的数；或下式的表面活性剂HO-〔CH2-CH2-O-〕r〔CH(CH3)-CH2-O-〕tH(VII)，式中，s∶t比例为10∶90至80∶20，或下式的表面活性剂R6-〔O-CH2-CH2-〕o-OH(VIII)式中R6是任选用至多3个支链或直链烷基取代的(C6-C20)芳基和o是1-60的数，在(c)∶〔(d)+(e)〕的重量比为3∶7至8∶2和表面活性剂(c)所占的比例始终大于表面活性剂(d)的条件下，阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂与显影剂的总重之比为10ppm至6,000ppm其中，该水溶性有机碱性化合物(b)的比例为0.5-20wt％，以显影剂的总重量为基准。