[发明专利]4－脱氧－4－表鬼臼毒素衍生物的制备方法无效
| 申请号： | 95103396.4 | 申请日： | 1992-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN1046521C | 公开（公告）日： | 1999-11-17 |
| 发明（设计）人： | 寺田忠史;藤本胜彦;野村诚;山下纯一;武田节夫;小武内尚;山口秀夫;Ｗ·康斯坦蒂 | 申请（专利权）人： | 大鹏药品工业株式会社 |
| 主分类号： | C07D493/04 | 分类号： | C07D493/04;//;31700;31700) |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及式（Ｉｃ）所示衍生物的两种制法。其一是使式（Ｉａ）所示衍生物在惰性溶剂中同时进行氧化还原制取（Ｉｃ）。其二是使式（Ｉａ）所示衍生物在惰性溶剂中进行氧化制得（Ｉｂ），然后使（Ｉｂ）衍生物在惰性溶剂中进行氧化制取（Ｉｃ）。（Ｉｃ）衍生物用于制备（Ｉｇ）表示的４－脱氧－４－表鬼臼毒素衍生物。后者可作抗肿瘤剂的有效成分。上述通式中各符号含义参见说明书。 | ||
| 搜索关键词： | 脱氧 表鬼臼 毒素 衍生物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1．一种通式(Ⅰc)表示的衍生物的制备方法(Ⅰc)式中，R4表示甲基、苄氧羰基、也可是有卤原子的低级烷酰基、或-Si(Rx)(Ry)(Rz)基(其中，Rx、Ry和Rz相同或不同，表示低级烷基或苯基),R7表示-(CH2)mCHO基(其中m为1或2)，所述方法的特征在于，使通式(Ⅰa)表示的衍生物在惰性溶剂中同时进行氧化还原，由此制得通式(Ⅰc)表示的衍生物，通式(Ⅰa)为(Ⅰa)式中，R4的定义同上，R5表示低级链烯基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大鹏药品工业株式会社，未经大鹏药品工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/95103396.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：约瑟夫逊结及其制造方法
- 下一篇：噪声抑制装置
