[发明专利]金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的方法及其装置无效
| 申请号: | 95101275.4 | 申请日: | 1995-01-27 | 
| 公开(公告)号: | CN1037283C | 公开(公告)日: | 1998-02-04 | 
| 发明(设计)人: | 张国义;童玉珍;党小忠;金泗轩 | 申请(专利权)人: | 北京大学 | 
| 主分类号: | C30B25/02 | 分类号: | C30B25/02;C30B29/38 | 
| 代理公司: | 北京大学专利事务所 | 代理人: | 陈美章 | 
| 地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 | 
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| 摘要: | 本发明提出了一种用于生长氮化镓(GaN)及其有关化合物单晶薄膜的方法及其装置。同轴双管分流器把NH3气与Ⅲ族有机源分别输运,可方便地调整它们的混合点,使两种气体快速混合并层流扩展,最大限度地减小气相副反应;气流压缩型MOVPE反应系统,解决了热浮力问题,可获得高质量均匀的氮化镓(GaN)及其有关化合物单晶薄膜,可用于氮化镓(GaN)-based兰光LED和LD的生产和研究。 | ||
| 搜索关键词: | 金属 有机物 外延 制备 氮化物 薄膜 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
                1.一种金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的方法,采用金属有机物气相外延(MOVPE)技术,以NH3做为N源,高纯H2作载气,采用TMGa,TMAl,TMIn做为Ga,Al,In源,c-面Al2O3(0001)单晶片做为衬底,加热方式为射频加热,温度由插入石墨加热器的热电偶(13)监测并由温度控制器控制,衬底放在石墨加热器上方的位置,将NH3气和H2+TMR反应物气体输运到MOVPE反应室,采用两步生长法,先在低温下(400~650度)生长过渡层,然后在高温(1000度以上)生长外延层,其特征是将NH3气和H2+TMR反应物气体在进入MOVPE反应室前用内外管道分别输运,内管的出气点为气体混合点,气体在反应室前混合,在反应室的反应管上壁有倾角α,下壁石墨加热器倾角θ,α角为3°-6°,θ角为7°-10°,在衬底上方进行气流压缩。
            
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