[发明专利]电子束蒸发器无效
| 申请号： | 94114030.X | 申请日： | 1994-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1042043C | 公开（公告）日： | 1999-02-10 |
| 发明（设计）人： | 王德苗;任高潮 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 浙江大学专利代理事务所 | 代理人： | 连寿金 |
| 地址： | 310027*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种电子束蒸发器，其特征是施材料制成棒状体，布置在原坩埚７的轴线处构成棒状靶Ｂ，该棒状靶Ｂ由一个旋转升降机构８带动作旋转和升降运动。同现有技术比较，其优点是连续蒸镀的时间可提高１５０倍以上，特别有利于将粉状施镀材料改制为棒料实现长时间连续蒸镀，蒸发方向可任意选择，有利于实现蒸镀工艺产业化。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 蒸发器 | ||
【主权项】：
1.一种电子束蒸发器，包括支承板[3]、阴极组件[4]，加速极[5]，电磁偏转机构[6]，坩埚[7]以及水冷套[H]，其中阴极组件[4]由带绝缘子的阴极支杆[41]、阴极丝[42]、聚焦极[43]组成，电磁偏转机构[6]由励磁线圈[61]和极靴[62]构成，阴极组件[4]、加速极[5]形成的电子束在极靴[62]间偏转后轰击施镀材料，施镀材料蒸汽沉积在工件表面，其特征在于：设有底盘[1]，支承杆[2]，棒状靶[B]以及旋转升降机构[8]；施镀材料制成棒状体，布置在原坩埚[7]的轴线处构成接受电子束轰击的棒状靶[B]，该棒状靶[B]由旋转升降机构[8]带动作旋转和升降运动。
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