[发明专利]溶剂恒液面提拉生长β-偏硼酸钡的方法无效
| 申请号: | 94112294.8 | 申请日: | 1994-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN1046005C | 公开(公告)日: | 1999-10-27 |
| 发明(设计)人: | 仲维卓;路治平;赵天德;洪慧聪;华素坤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00 |
| 代理公司: | 上海华东专利事务所 | 代理人: | 潘振甦 |
| 地址: | 200050*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种用溶剂恒液面提拉生长β-偏硼酸钡(β-BB0)单晶的方法,属于晶体生长领域。$本发明生长熔剂可分别采用Na2O,BaF2或Na2O+BaF2;生长速率达1.2—1.8mm/天。通过特殊设计的恒液面恒温生长炉进行生长。特别是伺服坩埚12和生长坩埚8之间由连通管13连接。倾斜角为30—40度,两者之间温差通过分别加温控制。前者比后者高出30—120℃。生长的大晶体完整性好;包裹体显著减少、成品率高。 | ||
| 搜索关键词: | 溶剂 液面 生长 硼酸 方法 | ||
【主权项】:
1.一种溶剂恒液面提拉生长β-偏硼酸钡的方法,整个晶体提拉生长是在恒液面恒温条件下进行,通过特殊工艺过程和特殊设计的恒液面加料炉实施:(1)工艺条件:a.生长用的助熔剂为Na2O,其组成配比(wt%)为Na2O∶BaB2O4=20-30∶80-70b.籽晶取向:(0001)误差2-4°c.原料经球磨均匀混和48小时,静水压压成柱状料块,压力为10-50T/cm2(2)生长条件:生长温度910-925℃提拉速度1.2-1.8mm/天转速5-10转/分温度梯度15~40℃/cm其特征在于:(1)恒液面加料炉的送料管(4)和伺服坩埚(12)是在生长坩埚的一侧,伺服坩埚(12)和生长坩埚(8)是通过连通管(13)成连体坩埚,连通管(13)的倾斜角为30-40度,伺服坩埚(12)和生长坩埚(8)之间的温差是通过分别加温控制,两者之间设有隔温板,伺服坩埚的温度比生长坩埚高出30-120℃。(2)生长用的助溶剂分别为BaF2或Na2O+BaF2,其组成配比(wt%)是:BaF2∶BaB2O4=33-36∶64-67(BaF2+Na2O)∶BaB2O4=(15+17)∶68(3)柱状料块通过加料管,间歇式以每小时小于2g的速度落入伺服坩埚(12)内先熔化,然后通过连通管(13)再进入生长坩埚(8)。
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