[发明专利]印相显影装置无效
| 申请号： | 94100036.2 | 申请日： | 1994-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1045224C | 公开（公告）日： | 1999-09-22 |
| 发明（设计）人： | 西田茂树;谷端透 | 申请（专利权）人： | 诺日士钢机株式会社 |
| 主分类号： | G03D3/00 | 分类号： | G03D3/00;G03B27/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 汪瑜 |
| 地址： | 日本和*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种印相显影装置，结构上具有能进行由施加于以往控制条上的规定条件构成的基准曝光的构件、作显影处理后密度测定的构件以及根据测定结果提示处理液状态的构件。备有基准曝光用负片，还具有控制部，进行通常印相时和基准曝光时的光源转换，测定基准曝光后处理所得的感光材料密度，并根据测定结果运算、判断和显示处理液状态。如此获得能简便进行液体管理的构件，实现印相显影处理的简化和质量提高。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 | ||
【主权项】：
1.一种连续进行感光材料印相、显影处理的印相显影装置，具有：曝光部(1)、显影处理部(2)、密度测定部(3)、控制部(6)和监视器(7)，其特征在于进一步具有：具备处理液状态判断基准曝光条件的基准曝光构件、对以上述基准曝光构件作印相、显影处理的感光材料密度进行测定的密度测定构件、以及根据上述密度测定结果判断、显示处理液状态的判断显示构件。
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