[发明专利]监测薄膜厚度的方法和设备无效
| 申请号： | 93117694.8 | 申请日： | 1993-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN1049045C | 公开（公告）日： | 2000-02-02 |
| 发明（设计）人： | Ｍ·汉诺逖奥;Ｇ·列纳德;Ｒ·特努 | 申请（专利权）人： | 格拉沃贝尔公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 董嘉扬 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种监测涂敷在板形基材上的透明涂层的厚度和均匀性的方法。该方法包括将多色光在多处照射在涂层上和测量从所述的涂层反射的光强度。在每一处，至少在两个分离的监测波长下测量反射光的强度，并处理所述的测量值以产生电信号，该信号可与一个或多个预定的阈值比较并与其他处产生的电信号比较，得到该涂层的厚度和均匀性是否在预定的允许值范围内的显示。监测结果可用来调整涂覆工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 监测 薄膜 厚度 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种监测涂敷在板形基材上的透明涂层的厚度和厚度均匀性的方法，所述的方法包括把多色光照射在涂层上多处，并测量从它们反射的光强度，其中至少在两个分离的监测波长下测量每处的反射光的强度，并处理所述的测量值以产生电信号，该信号可与一个或多个预定的阈值比较并与其他处产生的这种电信号比较，得到涂层的厚度是否在预定的允许值范围内的显示。
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