[实用新型]非接触式光刻曝光光学系统无效
| 申请号： | 89212805.4 | 申请日： | 1989-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN2045126U | 公开（公告）日： | 1989-09-27 |
| 发明（设计）人： | 郝沛明;周晨波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红 |
| 地址： | 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 非接触式光刻曝光光学系统，涉及一种能产生多点(线)光源阵列的光学结构，适用于光刻复制任意宽线条。其特征在于采用复眼棱镜组的光学结构取代已有技术中的复眼柱面透镜组和准直物镜组。复眼棱镜组由2n个条形棱镜光轴对称地排列在一块玻璃平板上加以胶合而成(n＝4～10)，系统采用了N组柱面倍率透镜组的结构，使系统具有结构简单、新颖、易于加工、制造成本低、刻线宽度可调、工作范围宽、使用方便等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 光刻 曝光 光学系统 | ||
【主权项】：
1、非接触式光刻曝光光学系统，涉及一种能产生多点(线)光源阵列的光学结构，其特征在于采用复眼棱镜组4的光学结构以产生多点(线)光源阵列，复眼棱镜组4由2n个条形棱镜光轴对称地排列在一块玻璃平板上加以胶合而成，并且置于系统的透镜3和折光反射镜5之间，采用N组柱面倍率透镜组7的光学结构，N随刻线宽度的不同可以取不同值。
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