[发明专利]防止形成聚合物结壁的方法及其使用的聚合设备无效
申请号: | 89105545.2 | 申请日: | 1989-08-09 |
公开(公告)号: | CN1035057C | 公开(公告)日: | 1997-06-04 |
发明(设计)人: | 清水敏秀;金子一郎;渡边干雄 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C08F2/00 | 分类号: | C08F2/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 于燕生,李若娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在具有烯类双键单体的聚合反应过程中,防止聚合反应器内形成聚合物结壁的方法,其中所述聚合反应在其内壁表面事先涂有水基涂层溶液然后经干燥形成涂层的聚合反应器中进行,该水基涂层溶液含有组分(A)一种水溶性阴离子染料和组分(B)从水不溶性的阳离子染料和水不溶性的含氮有机化合物中选出的至少一种化合物,涂层溶液的pH为7或7以下。本方法可以在广泛的具有烯类双键的单体聚合反应时,有效防止形成聚合物结壁。 | ||
搜索关键词: | 防止 形成 聚合物 方法 及其 使用 聚合 设备 | ||
【主权项】:
1.一种在具有烯类双键单体的聚合反应过程中,防止聚合反应器内形成聚合物结壁的方法,其中所述聚合反应在其内壁表面事先涂有水基涂层溶液然后经干燥形成涂层的聚合反应器中进行,该水基涂层溶液含有组分(A)一种水溶性阴离子染料和组分(B)从水不溶性的阳离子染料和水不溶性的既不含有羧基又不含磺酸基且含有5个或5个以上的共轭π键的含氮有机化合物中选出的至少一种化合物,涂层溶液的pH为7或7以下。
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