[发明专利]在制铝电解槽中控制添加固态电解质的工艺和设备无效
| 申请号： | 88102179.2 | 申请日： | 1988-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1019514B | 公开（公告）日： | 1992-12-16 |
| 发明（设计）人： | 贝诺特·苏尔蒙特;阿雷恩·帕特诺加 | 申请（专利权）人： | 皮奇尼铝业公司 |
| 主分类号： | C25C3/14 | 分类号： | C25C3/14;C25C3/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 余刚 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及在制铝电解槽中控制添加固态电解质的工艺。按照这个工艺，为了求出电解液的高度，确定标定值HBC并周期性地测定电解液液面高度，从而由其推导出电解液层HB和液态铝层HM的总高度HT，并测定阴极基片上的液态铝层的厚度HM。由HM值推导出电解液层的高度HB，HB＝HT-HM，并且将HB值与标定值HBC相对照，进而根据比较结果为电解槽添加基液或排出电解液。 | ||
| 搜索关键词： | 电解槽 控制 添加 固态 电解质 工艺 设备 | ||
【主权项】：
1.用于控制电解槽中固态电解质添加量的工艺，该电解槽是根据霍尔——赫劳尔特(Hall-H′eroult)工艺电解溶解于熔融态冰晶石(3)中的氧化铝电解液制取铝，该电解液位于含碳的阴极基片(1)和多块含碳的阳极(4)之间，阴极基片(1)上形成了液态铝层(2)，阳极(4)由阳极框架(33)支承，电解液高度相对于固定的上部构件(11)来调节，其特征在于，为了将电解液高度的波动限制到对于槽高HB固定的标定值HBC附近的约士1cm，电解槽中的电解液面高度采用如下方式之一来周期性地测量，该方式包括直接电接触，邻近效应、或光、电磁波或超声波遥控，根据相对于含碳阴极基片(1)已知的固定基准点PF，通过提供的关系式HT＝HB+HM＝D1-D2-D3，推导出电解液层HB和液态铝层HM的总高度HT，在上述关系式中：D1是电解槽上部构件(11)和阴极基片(1)之间距离；D2是上部构件(11)和修正器(7)的顶部位置之间的距离；D3是修正器(7)的顶部位置和它与液态电解液电接触时的位置之间修正器的行程；通过推导HB＝HT-HM＝D1-D2-D3-HM，其中HM根据参数由关系式HM＝D1-(DSC+DSCPA+DAM)获得，
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