[发明专利]吡唑并三嗪化合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 87107217.3 申请日: 1987-10-30
公开(公告)号: CN1017708B 公开(公告)日: 1992-08-05
发明(设计)人: 藤井節郎;川村博之;清川博;山田敏 申请(专利权)人: 大制药株式会社
主分类号: C07D487/04 分类号: C07D487/04;A61K31/53;//;23100;25100)
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 齐曾度
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 具有通式(1)的吡唑并三嗪化合物的制备方法,或(1)中各取代基之定义见说明书,该类化合物具有抑制黄嘌呤氧化酶的活性,并且对预防及治疗痛风有效用。
搜索关键词: 吡唑 化合物 制备 方法
【主权项】:
1、具通式(Ⅰ)的吡唑并三嗪化合物的制备方法(Ⅰ)其中,R1表示羟基或低级烷酰氧基,R2表示氢原子,羟基或巯基,R3表示(Ⅰ)选自吡咯基、吡啶基、噻吩基、噻喃基、吲哚基、苯并噻吩基、2,3-二氢苯并噻吩基、二氢苯并噻喃基、二苯并噻吩基,该基团可以被一个或两个取代基取代,该取代基选自卤原子、硝基和苯硫基,(2)萘基,(3)可以被1-3个选自以下基团的取代基取代的苯基:(Ⅰ)低级烷基,(Ⅱ)苯基,(Ⅲ)低级烷氧羰基,(Ⅳ)氰基,(Ⅴ)硝基,(Ⅵ)低级烷氧基,(Ⅶ)苯基-低级烷氧基,(Ⅷ)苯硫基-低级烷基、苯基低级烷基硫基,(Ⅸ)苯氧基,(Ⅹ)具下列通式的基团:其中R表示低级烷基、卤代低级烷基、可被1-3个取代基取代的苯基,该取代基选自卤原子、低级烷基和低级烷氧基,或者表示吡啶基,l表示整数0、1或2,(Ⅺ)卤原子,(Ⅻ)苯基-低级烷基,(ⅩⅢ)羧基,(ⅩⅣ)低级烷酰基,(ⅩⅤ)苯环上可以被1-3个取代基取代的苯甲酰基,该取代基选自卤原子、苯基-低级烷氧基、羟基,(ⅩⅥ)氨基,(ⅩⅦ)羟基,(ⅩⅧ)低级烷酰氧基,(ⅩⅨ)具下列通式的基团:,其中R4和R5可以相同或互异,并且它们各表示氢原子、C3-C8环烷基、可以被取代的低级烷基,该取代基选自羟基、呋喃基、噻吩基、四氢呋喃基、苯基,可以被1-3个取代基取代的苯基,该取代基选自低级烷基、羟基取代的低级烷基、低级烷酰基、氰基、羧基、低级烷氧羰基、羟基、低级烷氧基、和卤原子,或者R4、R5是杂环基团,它们选自吡啶基、嘧啶基、噻唑基、异噁唑基、吡唑基,并且这些杂环基团可以被低级烷基、氨基或低级烷酰氨基取代,或者R4和R5可和邻近的氮原子连接起来形成吡咯基、哌啶基、吗啉代基,(ⅩⅩ)具下列通式的基团:其中A表示低级亚烷基,所述的制备方法包括:(a)具有如下通式的化合物(R3同前之规定)与原甲酸烷基酯反应生成具通式(1-a)的化合物(R3同前之规定);(1-a)(b)具有如下通式的化合物(R3同前之规定,R6是低级烷基)与碱性化合物反应,生成具有通式(1-b)的化合物(R3同前之规定),(1-b)(c)具有如下通式的化合物(R1和R3同前之规定)与碱金属氢氧化物反应,生成具有通式(1-c)的化合物(R1和R3同前之规定);(1-c)(d)将具有如下通式的化合物(R3同前之规定,R2a代表氢原子、羟基或巯基)进行酰化反应,生成具有通式(1-e)的化合物(R2a和R3同前之规定,R1a是低级烷酰基);(1-e)或者(e)具有如下通式的化合物(R3同前之规定)与具有通式(其中X是卤原子)的N-(卤代羰基)异氰酸酯反应生成具有通式(1-f)的化合物(R3同前之规定),(1-f)
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