[发明专利]含光刻胶的废液的处理无效
| 申请号： | 87105308.X | 申请日： | 1987-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1010555B | 公开（公告）日： | 1990-11-28 |
| 发明（设计）人： | 三木康平;斋藤博 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | B01D61/14 | 分类号： | B01D61/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 徐汝巽,段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 自印刷电路板制造业、印刷业、半导体制造业以及其他使用光刻胶的工业排放的含光刻胶的废液的处理，是将废液进行特定性能的超滤，以便分离高分子量的有机废料，从再循环或回收的渗透液的有效组分中弃掉，产生有效的工序。本发明提供溶有光刻胶的废液处理方法是将溶有光刻胶的废液用特定性能的超滤进行浓缩，然后将其用辐射或热能进行聚合或固化，产生含有聚合物和水的固化物质。其能量是通过燃烧所得到的固化物质而取得的。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 废液 处理 | ||
【主权项】：
1.一种用于印刷电路版制造工业和其他使用水溶性光刻胶材料制造工业含有未固化光刻胶、无机碱化剂、消泡剂的光刻胶废液的处理方法，此方法包括：对通过用含有碱化剂的处理溶液处理光刻胶所产生的废液进行超滤；将通过超滤膜的每一渗透液各自送回处理溶液，以便使经过超滤清洁的废液循环；将用于处理过程的碱化组分加至循环的渗透液中直至其pH值变为用光刻胶层处理基片前的处理溶液原有的pH值为止。
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