[发明专利]新型青霉烯化合物的制备方法

摘要

式(I)所示青霉烯及其药用盐的制备方法。(I)中R为H或含卤原子或OH的C1-C4烷基，OH可视具体情况而被保护，A为Z，ZOCO或ZCO，Z为任意取代的亚苯基，亚萘基，亚杂环基，C1-C7亚烷基，C2-C4亚烯基，亚炔基，C3-C8亚环烷基，亚芳烷基，Q为R1，R2和R3为(i)视具体情况而被取代的烷基、芳烷基或芳基；(ii)R1与(i)同，R2、R3连结为视具体情况而被取代的稠合杂环；(iii)三者连结为视具体情况而被取代偶氮双环或三环；(iv)三者连结为视具体情况而被取代的稠合吡啶鎓、吡嗪鎓、吡唑鎓或哒嗪鎓阳离子。

主权项

1、制备通式(Ⅰ)所示、具备(5R，6S)构型的化合物或其药用盐的方法，式中A代表Z、Z-O-CO-，其中Z代表亚苯基或C1-C4亚烷基；，其中：R1代表未被取代或者被羧基取代的C1-C4烷基，R2，R3与氮原子联在一起代表吡咯烷基、哌啶基或哌嗪基或者R2，R3，R1与氮原子连在一起代表未被取代或者被取代的吡啶鎓基，其中取代基为1个或2个C1-C4烷基、氨基甲酰基、羟基、氨基、羧甲基、羟甲基磺酸酯基或乙基磺酸酯基，本方法包括使通式(Ⅱ)所示的化合物与通式(Ⅲ)所示的青霉烯中间体反应，式中A如上述规定，R1、R2和R3如上所限定，PG为羟基保护基，Z′为羧基保护基，L是对通式(Ⅱ)所示胺的亲核取代敏感的离去基团，随后借助于酸性条件、氟离子去除羟基保护基以及通过还原或烯丙基转移去除羟基保护基的途径使所形成的化合物去除保护基，必要的话将所得的化合物转变成盐。