[实用新型]一种用于物理气相沉积设备的弧旋转挡板装置

摘要

本实用新型涉及物理气相沉积设备领域，公开了一种用于物理气相沉积设备的弧旋转挡板装置，包括法兰座、套筒和芯轴，套筒的外壁上安装有密封圈，套筒上加工有扩径段，扩径段内安装有多个轴承组件和骨架型真空密封胶圈，套筒端部安装有支撑板，支撑板上通过螺柱连接有回转气缸，芯轴一端与回转气缸同轴连接，芯轴远离回转气缸的一端安装有L型的支架，支架上安装有与阴极弧源相配合的遮挡板。本实用新型通过设置套筒和套装套筒内的芯轴，并在芯轴两端分别安装位于外部的回转气缸和位于内部的遮挡板，在回转气缸的作用下可使遮挡板转动，以挡住不工作的阴极弧源，从而避免正在蒸发的靶材附着，以保证复合镀膜的效率、质量。