[发明专利]一种基于双扫描轨迹的平版激光雕刻系统及其雕刻方法在审
| 申请号： | 202310811894.1 | 申请日： | 2023-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN116689979A | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 方平;周彬;方华;徐向阳;高山 | 申请（专利权）人： | 杭州正乾机电有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/082;B23K26/08;B23K26/70 |
| 代理公司： | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人： | 冯权 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于双扫描轨迹的平版激光雕刻系统及其雕刻方法。本发明要解决的技术问题是：提供一种高速、精密的平版激光雕刻系统及其雕刻方法。解决问题的技术方案是：采用双扫描轨迹法，即以X轴传动和Y轴传动实现主扫描轨迹，以动铁式电‑机械转换器控制激光束运动实现副扫描轨迹，对平版表面进行雕刻加工，从而实现高速、高精度的雕刻，包括计算机、控制器、激光平台、X轴传动机构、Y轴传动机构和底座。本发明采用双扫描轨迹法实现精密平版的激光雕刻，雕刻速度快，精度高，并且适用于大功率激光雕刻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 扫描 轨迹 平版 激光雕刻 系统 及其 雕刻 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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