[发明专利]处理腔室的排放模块、处理腔室及其中处理基板的方法

摘要

此处公开用于基板处理设备的排放模块，具有主体、泵送环及对称流动阀。所述主体具有穿过所述主体形成的第一及第二真空泵开口。在所述主体中在所述第一及所述第二真空泵开口两者之上放置所述泵送环。所述泵送环包含具有顶部表面、底部表面及开口的实质环形主体。所述顶部表面具有在所述顶部表面中形成的一个或多个通孔，布置成与所述第一真空泵开口同心的图案。所述底部表面具有在所述底部表面中形成的流体通路，内部连接所述一个或多个通孔的每一个。在所述实质环形主体中形成所述开口，所述开口实质上与所述真空泵开口对齐。在所述主体中在所述泵送环之上放置所述对称流动阀，所述对称流动阀可在升高位置和降低位置之间移动。