[发明专利]一种降低纳米金属膏空洞率的烧结粘接方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310577774.X 申请日: 2023-05-22
公开(公告)号: CN116618648A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 汪礼胜;於挺;任广辉 申请(专利权)人: 中科意创(广州)科技有限公司
主分类号: B22F1/107 分类号: B22F1/107;B22F1/054;B22F3/10;B22F3/24
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 柯梦云
地址: 510530 广东省广州市黄埔*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于器件封装技术领域,具体涉及一种降低纳米金属膏空洞率的烧结粘接方法和应用。所述降低纳米金属膏空洞率的烧结粘接方法,包括以下步骤:S1、将纳米膏体印刷到被粘接基材上;S2、将电子器件安放到纳米银膏上;S3、将贴有电子器件的基材进行冷冻干燥;S4、将干燥后的产品进行烧结;所述冷冻干燥包括以下操作:第一阶段:预冻,所述预冻的温度为10℃以下;第二阶段:初次干燥;第三阶段:二次干燥;第四阶段:最终干燥;或第一阶段:预冻,所述预冻的温度为10℃以下;第二阶段:初次干燥;第三阶段:最终干燥。本发明的烧结粘接方法能够有效降低金属键合的空洞率,提高导热率和提升键合强度,最终提高器件的可靠性。
搜索关键词: 一种 降低 纳米 金属 空洞 烧结 方法 应用
【主权项】:
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