[发明专利]微纳光电子器件的优化方法及片上模分复用/解复用器在审

专利信息
申请号: 202310396755.7 申请日: 2023-04-12
公开(公告)号: CN116522860A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 杜特;杨俊波;彭政;张兆健;马汉斯;姜鑫鹏;罗鸣宇 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398;G06F30/373;G06E3/00
代理公司: 长沙智嵘专利代理事务所(普通合伙) 43211 代理人: 刘宏
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种微纳光电子器件的优化方法及片上模分复用/解复用器,包括以下步骤:建立器件的初始仿真模型,计算此时整个仿真模型的品质因数值;选择初始多边形的一个可移动顶点作为搜索点,每改变一次搜索点的位置,计算一次品质因数值;搜索使得品质因数值最优的搜索点的位置;将搜索点的位置保持在使得品质因数值最优的位置,对下一个搜索点进行搜索,所有的搜索点均搜索过一遍最优位置为一次迭代;重复迭代,直至达到设定的指标。本优化方法的优化速度快,能够节省大量的计算时间和计算资源;具有形状搜索能力,无需给定详细的初始结构;能优化现有模分复用/解复用器的尺寸。
搜索关键词: 光电子 器件 优化 方法 片上模分复用 解复用器
【主权项】:
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