[发明专利]微纳光电子器件的优化方法及片上模分复用/解复用器在审
申请号: | 202310396755.7 | 申请日: | 2023-04-12 |
公开(公告)号: | CN116522860A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 杜特;杨俊波;彭政;张兆健;马汉斯;姜鑫鹏;罗鸣宇 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | G06F30/398 | 分类号: | G06F30/398;G06F30/373;G06E3/00 |
代理公司: | 长沙智嵘专利代理事务所(普通合伙) 43211 | 代理人: | 刘宏 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种微纳光电子器件的优化方法及片上模分复用/解复用器,包括以下步骤:建立器件的初始仿真模型,计算此时整个仿真模型的品质因数值;选择初始多边形的一个可移动顶点作为搜索点,每改变一次搜索点的位置,计算一次品质因数值;搜索使得品质因数值最优的搜索点的位置;将搜索点的位置保持在使得品质因数值最优的位置,对下一个搜索点进行搜索,所有的搜索点均搜索过一遍最优位置为一次迭代;重复迭代,直至达到设定的指标。本优化方法的优化速度快,能够节省大量的计算时间和计算资源;具有形状搜索能力,无需给定详细的初始结构;能优化现有模分复用/解复用器的尺寸。 | ||
搜索关键词: | 光电子 器件 优化 方法 片上模分复用 解复用器 | ||
【主权项】:
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