[发明专利]一种微反射镜阵列镜面面形补偿方法在审
| 申请号： | 202310376171.3 | 申请日： | 2023-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN116732475A | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 沈宇荣;汪美辰 | 申请（专利权）人： | 上海镭望光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;G02B1/10;C23C14/26;C23C14/10;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 秦翠翠 |
| 地址： | 201821 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种微反射镜阵列镜面面形补偿方法，微反射镜阵列包括若干个微反射镜，微反射镜面形补偿方法包括步骤：在微反射镜的镜面上制备193nm高反光学薄膜，193nm高反光学薄膜由若干层交替沉积的低折射率膜层和高折射率膜层沉积形成，且193nm高反光学薄膜的最内层膜层为SIO2膜料的低折射率膜层；调节193nm高反光学薄膜最内层膜层的SIO2沉积厚度，以调节193nm高反光学薄膜最内层膜层的压应力，通过193nm高反光学薄膜最内层膜层的压应力对193nm高反光学薄膜因张应力引入的镜面面形变化进行补偿。通过改变和微反射镜硅基底直接接触的SIO2膜层厚度，对镜面面形变化进行补偿，不改变SIO2本身的光学常数，且厚度的改变不会改变微反射镜上整个193nm高反光学薄膜的光谱特性和偏振特性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 阵列 面面 补偿 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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