[发明专利]垂直石墨烯纳米片负载二氧化钛异质结及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310263006.7 申请日: 2023-03-17
公开(公告)号: CN116251577A 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 季佩宇;吴雪梅;陈佳丽;谭海云;黄天源 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: B01J21/18 分类号: B01J21/18;B01J35/02;B01J37/34
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 苏张林
地址: 215000 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种垂直石墨烯纳米片负载二氧化钛异质结及其制备方法,其包括衬底,所述衬底上垂直间距设置有若干个石墨烯纳米片,所述石墨烯纳米片的顶部通过磁控溅射包覆有二氧化钛纳米层,所述石墨烯纳米片的厚度为100~200nm、高度为1000~1300nm,相邻所述石墨烯纳米片之间的间距为150~250nm;所述二氧化钛纳米层的厚度为150~250nm。本发明具有微腔结构、高比表面积的特点,形成具有异质结的VGs/TiO2光催化剂,以提升太阳光的利用率和光生载流子的输运速率;本发明的制备方法可于室温条件下进行沉积垂直石墨烯(VGs),降低了制备难度,垂直石墨烯生长速率更高,生成的垂直石墨烯质量更高。
搜索关键词: 垂直 石墨 纳米 负载 氧化 钛异质结 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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