[发明专利]一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 202310253838.0 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116240550A | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张力飞;王同庆;路新春 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06;G09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法，所述抛光液包括磨料、氧化剂、缓蚀剂、络合剂和水；其中，所述缓蚀剂包括1,2,4‑三氮唑、油酸钾或1‑苯基‑5‑巯基四氮唑中的任意一种或至少两种的组合。本发明在抛光液中加入特定组分和浓度的缓蚀剂，使得Cu/Co的抛光速率选择比处于可调状态，用以降低表面腐蚀、提高金属表面平坦化质量，防止抛光过程中造成表面粗糙、碟形和腐蚀坑等缺陷的出现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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