[发明专利]一种晶体管及其制作方法有效
申请号: | 202310238694.1 | 申请日: | 2023-03-13 |
公开(公告)号: | CN115939205B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 李成果;沈晓安 | 申请(专利权)人: | 湖北九峰山实验室 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/423;H01L21/335 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐华 |
地址: | 430073 湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请提供了一种晶体管及其制作方法,晶体管包括:缓冲层;电流阻挡层,电流阻挡层设置在缓冲层的表面上;非故意掺杂层,非故意掺杂层设置在电流阻挡层背离缓冲层的一侧;非故意掺杂层背离电流阻挡层的一侧表面具有凸起的脊型结构;脊型结构的顶部具有源极和漏极;势垒层,势垒层覆盖脊型结构以及脊型结构两侧的非故意掺杂层,且露出源极和漏极;栅极,栅极位于脊型结构一侧的势垒层表面上;在第一方向上,栅极位于源极和漏极之间;栅极包括:栅足和栅帽,栅足位于栅帽与脊型结构之间,栅帽与栅足均垂直于非故意掺杂层所在平面;其中,第一方向为脊型结构的延伸方向。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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