[发明专利]基于模型的光学临近修正方法在审
| 申请号： | 202310227571.8 | 申请日： | 2023-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN116224727A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 杜杳隽;陈红 | 申请（专利权）人： | 深圳国微福芯技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人： | 尹彦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福保街道福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于模型的光学临近修正方法，包括：根据待修正的版图图形建立光学临近修正的第一模型，所述第一模型对所述待修正的版图图形的覆盖范围大于等于预设覆盖范围；通过第一模型获得硅片表面未被第一模型所覆盖到的弱点区域，以及被第一模型所覆盖到的正常区域；基于弱点区域建立围绕弱点区域形成的至少一个缓冲区，并基于弱点区域的数据建立第二模型；将所述待修正的版图图形的图形边缘分割成线段，每一个线段被配置一个评估点；根据每一个评估点的位置，为对应的线段配置对应权重的第一模型和/或第二模型进行光学临近修正。本发明将版图图形位于不同区域的部分采用不同模型进行修正，从而提高修正效果，避免弱点带来的光刻误差。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模型 光学 临近 修正 方法 | ||
【主权项】：
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