[发明专利]一种重掺杂p型SiC单晶及其生长方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310162514.6 申请日: 2023-02-23
公开(公告)号: CN116240632A 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 谢雪健;仲光磊;陈秀芳;徐现刚 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 郑平
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于半导体技术领域,具体涉及一种重掺杂p型SiC单晶及其生长方法和应用。本发明利用铝、氮元素构成的化合物或固溶体作为一类掺杂源和其它p型掺杂源作为二类掺杂源来进行Al‑N共掺。进一步的,在SiC粉料区中放置AlN材料作为一类掺杂源,使其分解时提供相同摩尔比的Al原子和N原子,进而实现N源与Al源同步释放,起到维持重掺杂晶体的单一晶型;放置Al4C3、Al2O3、Al等作为二类掺杂源,来提供额外的Al元素来实现n[Al]:n[N]在1.2~3.0的范围内,保证生长的晶体是单一晶型的p型SiC。得到p型SiC单晶具有Al掺杂浓度不低于7×1019cm‑3、电阻率不高于0.200Ω·cm、摇摆曲线半峰宽不超过60弧秒中的一个或多个特征,可应用于智能电网、光伏发电、大功率电力电子器件等领域。
搜索关键词: 一种 掺杂 sic 及其 生长 方法 应用
【主权项】:
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