[发明专利]晶片载放台在审
| 申请号： | 202310127913.9 | 申请日： | 2023-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN116895504A | 公开（公告）日： | 2023-10-17 |
| 发明（设计）人： | 森冈育久;竹林央史;久野达也;井上靖也 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人： | 王轶;郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种晶片载放台，其在不会妨碍对象物的吸附的状态下提高等离子体的产生效率。晶片载放台(10)具备陶瓷板(20)和导电性基材(30)。陶瓷板(20)在具有晶片载放面(21a)的板中央部(21)的外周具备具有聚焦环载放面(25a)的板环状部(25)。导电性基材(30)设置于陶瓷板(20)的下表面，用作高频源电极。在板环状部(25)以自聚焦环载放面(25a)起算为相同高度植入有聚焦环吸附用电极(26)和被供给偏置用高频的聚焦环侧高频偏置电极(27)。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 载放台 | ||
【主权项】：
暂无信息
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