[发明专利]一种相位光栅位置测量系统及测量结构参数的方法在审
| 申请号： | 202310091741.4 | 申请日： | 2023-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN116222422A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 李璟;杨光华;朱世懂;殷超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01B11/00;G01B9/02001 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 肖慧 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种相位光栅位置测量系统及测量结构参数的方法，该方法包括：S1，利用相位光栅位置测量系统扫描光栅标记(107)，得到测量信号；S2，从测量信号中分离出各衍射级次的测量信号，获取各衍射级次的相位信息和光强信息；S3，根据相位信息计算得到光栅标记(107)的位置信息；S4，根据光强信息计算得到光栅标记(107)的结构参数。本公开利用相位光栅的衍射场信息，在测量光栅标记位置的同时，可获得光栅标记的结构信息，便于分析光栅加工工艺过程对设计结构的改变以及对于测量的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 相位 光栅 位置 测量 系统 结构 参数 方法 | ||
【主权项】：
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