[发明专利]一种硅基硅锗异质结双极晶体管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202310073716.3 申请日: 2023-02-07
公开(公告)号: CN115939198A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 王冠宇;凌鹏;孔森林;向盈聪;周春宇;王巍 申请(专利权)人: 重庆邮电大学
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737;H01L21/331;H01L29/06;H01L29/08
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 方钟苑
地址: 400065 *** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种硅基硅锗异质结双极晶体管及其制造方法,属于电子技术领域。在衬底上离子注入形成N+BL埋层;在N+BL埋层上形成四氮化三硅应力层;离子注入形成N‑集电区;通过氧化形成二氧化硅掩蔽层,刻蚀出集电区窗口后进行硼离子注入,并执行快速退火操作以消除晶格损伤;离子注入形成N+BL埋层连通区;在应变基区选择性外延Si1‑xGex基区;在Si1‑xGex基区上方淀积硅帽层;淀积N型多晶硅作为发射极;刻蚀Si并淀积SiGe材料与四氮化三硅应力层形成集电区应力区;光刻集电极、发射极和基极以外的金属,形成电极引线。本发明能够增强载流子的迁移率、减小载流子总渡越时间,提高晶体管工作速度。
搜索关键词: 一种 硅基硅锗异质结 双极晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆邮电大学,未经重庆邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310073716.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top