[发明专利]一种电解抛光过程中表面光滑度的控制系统及方法在审
| 申请号： | 202310049483.3 | 申请日： | 2023-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN116288637A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 邵明月;耿德占 | 申请（专利权）人： | 中科艾尔（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 北京卓泽知识产权代理事务所(普通合伙) 11766 | 代理人： | 李国华 |
| 地址： | 101111 北京市通州区北京经济技术*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电解抛光过程中表面光滑度的控制方法及系统，其包括：将预制的电极棒插入母管内部，调节进入母管内的酸液温度、酸液浓度、酸液流动压力、稳定电流和行走速度，使各参数分别满足各自的预设条件；电极棒在母管内以设定的行走速度进行移动放电，将携带大量能量的β粒子不断的轰击到母管内壁上，在母管内壁生成一层均匀一致且极度光滑的致密的氧化膜，使母管内壁表面的粗糙度Ra＜0.1。本发明通过调节酸液温度、及时补充酸液浓度、酸液流动压力，使电流和行走速度稳定，进而使抛光表面的光滑度Ra＜0.1，使气体管路内壁光滑度达到芯片生产的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电解 抛光 过程 表面 光滑 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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