[实用新型]一种低触头压力的真空灭弧室有效
| 申请号: | 202221359065.1 | 申请日: | 2022-06-01 |
| 公开(公告)号: | CN217740430U | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
| 发明(设计)人: | 吴或龙;周立娟 | 申请(专利权)人: | 厦门森光电气科技有限公司 |
| 主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 361100 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种低触头压力的真空灭弧室,属于真空灭弧室领域,一种低触头压力的真空灭弧室,包括一对真空灭弧室,一对真空灭弧室一端设有动盖板,另一端设有静盖板,真空灭弧室靠近动盖板的一端开设有第一滑槽,动盖板靠近真空灭弧室的一端开设有第一转动槽,第一转动槽内端滑动连接有第一齿块,第一齿块上端啮合连接有第一齿轮,第一齿轮内端固定连接有第一转轴,真空灭弧室靠近静盖板的一端开设有第二滑槽,静盖板靠近真空灭弧室的一端开设有第二转动槽,第二转动槽内端滑动连接有第二齿块,它可以实现减少了复杂的外形结构,增加了巧妙的结构设计,提高了工作人员对其进行安装和拆卸维修的便捷性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 低触头 压力 真空 灭弧室 | ||
【主权项】:
暂无信息
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