[实用新型]一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线有效
| 申请号： | 202220624763.3 | 申请日： | 2022-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN217052383U | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 刘俊峰;秦燕;李清 | 申请（专利权）人： | 南通理工学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人： | 项磊 |
| 地址： | 226000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，包括能往复传输基材的带式输送线，所述带式输送线上设有若干能相互连通的腔室，各个腔室之间均设有闸板阀，所述腔室至少包括镀膜工艺腔室，所述镀膜工艺腔室内固定设置有靶材，所述靶材沿所述带式输送线的横向设置，形成阴极磁场的磁铁沿所述靶材横向排列，阴极磁场的磁力线顶端方向与基材传输方向平行。本实用新型使用后等离子体在靶材跑道径向的刻蚀在基片径向方向上均匀分布，消除了跑道深度梯度变化对薄膜均匀性的影响，且本方案还降低了大规模生产的设备投入成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低成本 往复 磁控溅射 镀膜 生产线 | ||
【主权项】：
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